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Journal | [J] 现代科技研究 Volume 5, Issue 12. 2025.
高效低损伤晶硅制绒添加剂的分子设计与性能优化研究
作者 : 王 涛, 韩 军
DOI: 10.18686/xdkjyj.v5i12.24052
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摘要 / Abstract
针对晶硅制绒过程中反应速率难控､硅片表面损伤严重及陷光性能不足的问题,开展高效低损伤制绒添加剂的分子设计与性能优化研究｡通过密度泛函理论筛选含氮杂环与羟基官能团的目标分子,构建"吸附-调控-缓蚀"协同作用机制,制备系列新型添加剂｡经单晶硅制绒试验验证,最优添加剂使硅片表面反射率降至10.2%,腐蚀速率控制在0.8μm/min,较传统添加剂损伤层厚度减少42%｡该研究为提升晶硅太阳能电池光电转换效率提供了关键材料支撑与技术参考｡
关键词 / Keywords
晶硅制绒,添加剂,分子设计,低损伤,反射率,腐蚀速率
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